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Revestidor giratório sem vácuo de mesa
O Spin Coater VTC-50A adota sistemas de fonte de alimentação independentes para parte do motor e parte de controle, e o sistema de controle de velocidade adota microcomputador de chip único com alta anti-interferência para controle, de modo que a velocidade de rotação seja muito alta e estável na faixa de 1000 -8000 RPM. O revestidor possui dois estágios durante a operação, ou seja, estágio T1 em tempo de baixa velocidade e estágio T2 em tempo de alta velocidade.
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Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) mit 3 Vakuum-Chucks
Der Vakuum-Spincoater VTC-100 ist standardmäßig mit 3 Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe ausgestattet. Je nach Probengröße können unterschiedliche Vakuumspannfutter verwendet werden. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spincoater VTC-100 die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Steuerung der Geschwindigkeit.
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Machine d'enduction rotative compacte (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) Conception à mandrin bas
La coucheuse sous vide VTC-100B est une version améliorée de la coucheuse sous vide VTC-100. Le couvercle supérieur est plié pour l'ouverture et la fermeture et est équipé d'un verrou de sécurité. En même temps, il a la fonction de protection contre le couvercle ouvert pour mieux garantir la sécurité de l'opérateur.
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Revestimento giratório de mandril a vácuo programável (500-6000 rpm, 8" máx.)
O revestidor giratório a vácuo VTC-200 tem as vantagens de operação simples, limpeza conveniente e tamanho pequeno. É utilizado principalmente no processo de cultivo de filmes em laboratórios de faculdades e universidades e institutos de pesquisa científica. Durante o trabalho, o revestidor giratório a vácuo VTC-200 usa o método de adsorção de placa de vácuo para fixar a amostra na placa de amostra. O equipamento utiliza programa de dois estágios para controlar a velocidade.
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Machine de revêtement à rotation haute vitesse (10 000 tr/min et 5 pouces maximum)
La machine d'enduction sous vide VTC-100PA convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Elle peut être utilisée pour les solutions de revêtement d'acide fort et d'alcali fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour standard) en fonction de la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution.
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Hi-Speed Spin Coater met 100ºC verwarmingsdeksel
VTC-100PA-I Vacuum Spin Coater is geschikt voor halfgeleiderprocessen, kristallen, optische schijven, plaatproductie en oppervlaktecoating, enz. Het kan worden gebruikt voor sterk zure en sterk alkalische coatingoplossingen. De apparatuur is uitgerust met twee vacuümklauwplaten van verschillende afmetingen (standaard) afhankelijk van de grootte van het monster. De apparatuur kan 12 sets programma's opslaan en elke set bevat 6 lopende fasen.
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Hochgeschwindigkeits-Spincoater mit 200ºC Heizabdeckung
Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA-II eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für stark saure und stark alkalische Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die je nach Probengröße angepasst sind. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.
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हाई-स्पीड स्पिन कोटर (10K rpm और 5" अधिकतम) UV कवर के साथ
VTC-100PA-UV UV स्पिन कोटर सेमीकंडक्टर प्रक्रिया, क्रिस्टल, ऑप्टिकल डिस्क, प्लेट बनाने और सतह कोटिंग आदि के लिए उपयुक्त है। ऊपरी कवर UV प्रकाश स्रोत को अपनाता है और विशेष रूप से UV प्रकाश के प्रति संवेदनशील सामग्रियों के लिए उपयुक्त है, जो लेपित फिल्म को जल्दी से ठोस बना सकता है। इसके अलावा, UV लैंप में एक पोलीमराइजेशन फ़ंक्शन भी होता है, जो मोनोमर को पॉलीमराइज़ करके पॉलीमर फिल्म बना सकता है।
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Máy tráng quay chống ăn mòn (6K RPM & 6" wafer Max.)
Máy tráng quay chân không VTC-200P thích hợp cho quy trình bán dẫn, tinh thể, đĩa quang, chế tạo tấm và phủ bề mặt, v.v. Thiết bị có thể lưu trữ 12 bộ chương trình và mỗi bộ gồm 6 giai đoạn chạy. Nắp trên của buồng có thể làm nóng mẫu (chức năng tùy chọn), có lợi cho quá trình phủ vật liệu màng mỏng có độ nhớt cao.
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