Comprar Serra de corte e corte,Máquina de lixar e polir,Máquina de revestimento de filme?

2000 Tempo de fundação
100+ Contagem de funcionários
14.000m² Coberto de Fábrica

Serra de fio diamantada para corte máx. 50 mm

Revestidor de alta velocidade (10 mil rpm e 5" máx.)

Serra diamantada de baixa velocidade com lâminas de corte de 4 polegadas

Máquina de lapidação e polimento com pressão central

Revestidor de filme compacto para fundição de fita com tampa de aquecimento superior

Sistema compacto de fusão por arco a vácuo com 7 cavidades

Máquina de polimento e lapidação de precisão de 8"

Revestidor de mesa sem vácuo

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SOLUÇÃO

Uma análise detalhada do forno de caixa de alta temperatura de 1700°C e 125 litros da Shenyang Kejing.

2026/02/06

Este forno de caixa de alta temperatura, com sua capacidade ultragrande de 125 litros e temperatura máxima de 1700 °C, é um forno de laboratório de nível industrial que está se tornando uma ferramenta poderosa para inúmeros laboratórios universitários, institutos de pesquisa e empresas industriais na superação dos desafios da preparação de materiais em altas temperaturas.

Análise detalhada da prensa metalográfica de embutimento a quente de seis estações HKQ-25-6

2026/02/04

Na pesquisa em ciência dos materiais, na fabricação de processamento de metais e em instituições de testes terceirizadas, a preparação de amostras metalográficas é uma etapa crucial antes da análise microscópica. Para muitos laboratórios com grande volume de trabalho, a montagem das amostras frequentemente representa um gargalo em termos de eficiência. As máquinas de montagem manuais ou de estação única tradicionais não são apenas demoradas, mas também altamente dependentes da habilidade do operador, o que pode facilmente levar a uma qualidade inconsistente da preparação da amostra e até mesmo à necessidade de retrabalho nas etapas subsequentes de lixamento e polimento devido a erros humanos.

Introdução à placa aquecedora de laboratório a vácuo

2026/01/30

No trabalho diário dos laboratórios de materiais, frequentemente nos deparamos com um dilema complexo: a necessidade de realizar tratamento térmico ou revestimento em amostras ultrafinas (como cristais, wafers semicondutores e substratos de células a combustível) em um ambiente de alta temperatura (300℃-500℃), mas os métodos tradicionais de fixação mecânica podem facilmente causar danos por tensão.