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Instrumento de pulverização catódica magnetron de alto vácuo

1. Este revestidor por pulverização catódica magnetrônica de alto vácuo foi desenvolvido independentemente por nós, e o efeito de preparação é intuitivo e controlável.
2. O revestidor por pulverização catódica magnetron de alto vácuo pode ser equipado com vários canhões de alvo, que podem ser substituídos conforme necessário.
3. O revestidor por pulverização catódica magnetrônica de alto vácuo possui alta adaptabilidade e bom desempenho, superando em muito os produtos similares do mesmo setor.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 22 dias úteis
  • 50 conjuntos
  • em formação

Introdução ao equipamento de pulverização catódica por magnetron:

O equipamento de deposição por magnetron VTC-600G, desenvolvido independentemente para alto vácuo, é um equipamento de revestimento de camada única ou multicamadas que pode ser usado para preparar filmes ferroelétricos, condutores, de liga, semicondutores, cerâmicos, dielétricos, ópticos, de óxido, filmes duros, filmes de politetrafluoroetileno, etc. O equipamento de deposição por magnetron VTC-600G pode ser equipado com múltiplos canhões de alvo, e a fonte de alimentação RF correspondente é usada para a deposição de materiais não condutores, enquanto a fonte de alimentação CC correspondente é usada para a deposição de materiais condutores. Comparado com equipamentos similares, o equipamento de deposição por magnetron não só é amplamente utilizado, como também apresenta as vantagens de tamanho reduzido e facilidade de operação. É um equipamento ideal para a preparação de filmes de materiais em laboratório, especialmente adequado para pesquisas em eletrólitos sólidos e OLEDs.


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Principais características dos equipamentos de pulverização catódica por magnetron:

O instrumento de pulverização catódica por magnetron a vácuo pode ser equipado com vários canhões de alvo, sendo que a fonte de alimentação de RF correspondente é usada para a deposição por pulverização de materiais de alvo não condutores, e a fonte de alimentação CC correspondente é usada para a deposição por pulverização de materiais condutores (o canhão de alvo pode ser substituído conforme a necessidade do cliente).

O instrumento de pulverização catódica por magnetron a vácuo pode preparar uma variedade de filmes finos e é amplamente utilizado.

O instrumento de pulverização catódica por magnetron a vácuo é pequeno e fácil de operar.

·Toda a máquina possui um design modular, e a câmara de vácuo, o conjunto da bomba de vácuo e a fonte de alimentação de controle são projetados separadamente, podendo ser ajustados de acordo com as necessidades reais dos usuários.

A fonte de alimentação pode ser selecionada de acordo com as necessidades reais do usuário. Uma única fonte de alimentação pode controlar várias armas de alvo, ou várias fontes de alimentação podem controlar uma única arma de alvo.


Parâmetros técnicos do instrumento de pulverização catódica por magnetron a vácuo:

Nome do produto

Instrumento de pulverização catódica por magnetron de alto vácuo VTC-600G

Modelo do produto

VTC-600G

Parâmetros principais

1. Estrutura: estrutura da porta frontal da mesa, sistema de exaustão traseiro.

2. Vácuo máximo: 6,0×10-5Bem.

3. Taxa de vazamento: metros 1h≤0,5Pa.

4. O tempo de exaustão é de cerca de 20 minutos, da atmosfera até 5,0×10-3.

5. Grupo de bombas de vácuo: bomba mecânica + bomba molecular.

6. Plataforma de amostra: φ140, temperatura ambiente -500℃, precisão ±1℃ (a temperatura pode ser aumentada de acordo com as necessidades reais), rotação ajustável entre 5 rpm e 20 rpm. A função de polarização pode ser adicionada conforme a necessidade do cliente para obter um revestimento de maior qualidade.

7. Sistema de enchimento de gás: 2 fluxos de massa (Argônio/nitrogênio cada).

8. O ângulo entre a cabeça alvo e o eixo central da plataforma de amostra é de 34°.

9. Número de cabeças alvo: 3 (a 120° uma da outra).

10. Método de resfriamento da arma alvo: resfriamento a água.

11. Dimensões do material alvo: φ2″, espessura de 0,1 a 5 mm (a espessura varia devido aos diferentes materiais alvo).

12. Especificações do produto:

      • Dimensões totais da máquina: 700 mm × 852 mm × 1529 mm;

Magnetron sputtering equipment


Acessórios opcionais para equipamentos de pulverização catódica por magnetron:

NÃO.

Nome

Função

Foto

1

defletor de estágio de amostra

(opcional)

Vacuum magnetron sputtering instrument


Garantia:

Garantia limitada de um ano com suporte vitalício (exceto peças enferrujadas devido a condições inadequadas de armazenamento).


Logística:

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Sobre nós:

Somos uma empresa de alta tecnologia focada na pesquisa, desenvolvimento e produção de máquinas de revestimento, sendo também líderes no setor. Cada um de nossos produtos foi cuidadosamente projetado e rigorosamente testado por nossos projetistas, apresentando alto nível de desempenho e precisão. Não nos concentramos apenas no produto em si, mas também na inovação tecnológica e no relacionamento com o cliente, comprometendo-nos a fornecer instrumentos experimentais de alto nível para clientes em todo o mundo.


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