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Instrumento de pulverização catódica de filme fino de plasma

1. A máquina de pulverização catódica de filmes finos é especialmente projetada para a preparação de revestimentos metálicos, como ouro, platina, índio, prata, etc., e tem forte adaptabilidade.
2. A máquina de pulverização catódica de filmes finos é construída de forma independente pela nossa empresa, usando materiais altamente duráveis e pode ser usada por um longo tempo.
3. A máquina de pulverização catódica de filmes finos é equipada com um painel de operação, que pode definir o tempo de trabalho e o tamanho atual, além de facilitar o controle do processo experimental.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 10 dias úteis
  • 50 conjuntos
  • em formação

Introdução de Máquina de revestimento por pulverização catódica de plasma magnetron de mesa:

A máquina de revestimento por pulverização catódica de plasma magnetron GSL-1100X-SPC-12 foi especialmente projetada para revestir filmes metálicos (como ouro, platina, índio, prata, etc.) em substratos. O diâmetro máximo da amostra é de 40 mm e a espessura do filme pode chegar a 300Å. É particularmente adequada para o revestimento de amostras de MEV com revestimento de ouro como eletrodo condutor.

Thin Films Sputtering Machine

Características da máquina de revestimento por pulverização catódica de plasma magnetron de mesa:

1. O produto pode ajustar a corrente e definir o tempo de pulverização catódica.

2. O produto passou pela certificação CE e está em conformidade com os padrões internacionais.


Parâmetros técnicos da máquina de pulverização catódica de filmes finos:

Modelo do produtoInstrumento de pulverização catódica de filme fino de plasma GSL-1100X-SPC-12
EUcondições de instalação

Este equipamento deve ser usado em uma temperatura de 25℃±15℃ e umidade de 55%Rh±10%Rh.

1. Água: Não é necessário.

2. Eletricidade: CA 220 V 50 Hz, deve ser bem aterrada.

3. Gás: A câmara do equipamento precisa ser preenchida com argônio (pureza acima de 99,99%) para limpeza, e você precisa trazer seu próprio cilindro de gás argônio.

4. Bancada de trabalho: tamanho 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidade de carga acima de 50 kg.

5. Dispositivo de ventilação: necessário.

Parâmetros técnicos do Mini Plasma Sputtering Coater

1. Potência de entrada do Mini Plasma Sputtering Coater: 208 V-240 V 50 Hz/60 Hz.

2. Plataforma de amostra: Ø60mm, altura ajustável.

3. Cavidade de quartzo: Ø100mm×130mm.

4. Entrada de ar: Há uma válvula interna, que pode ser usada para introduzir vários gases na cavidade.

5. Alvo: Alvo de ouro com pureza de 4N, Ø57mm×0,12mm.

Mini Plasma Sputtering CoaterDesktop magnetron plasma sputtering coater machine

Especificações do Mini Revestidor de Plasma Sputtering

Tamanho: 480 mm × 320 mm × 150 mm; Peso: 20 kg
Acessórios opcionais do Mini Plasma Sputtering Coater

1. Au (Ø57 mm × 0,12 mm, 4N)

2. Pt (Ø57 mm × 0,12 mm, 4N)

3. Ag (Ø57 mm × 0,5 mm, 4N)


Sobre nossas vantagens:

1. Capacidades independentes de P&D e fabricação:

A Shenyang Kejing possui recursos independentes de P&D e produção. Todas as tecnologias são desenvolvidas internamente pela empresa para garantir a qualidade do produto e a liderança tecnológica.

2. Atendimento ao cliente eficiente:

A empresa se concentra nas necessidades do cliente, fornece soluções personalizadas e pode responder rapidamente às necessidades de suporte técnico dos clientes para melhorar a experiência e a satisfação do cliente.

3. Grande experiência no setor:

A Shenyang Kejing acumulou uma rica experiência em vários campos da indústria, especialmente em equipamentos de alta precisão e inovação tecnológica, ajudando os clientes a melhorar a eficiência da produção e o nível técnico.


Thin Films Sputtering Machine

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