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Revestimento por pulverização catódica de plasma de magnetron de alto vácuo de cabeça única
VTC-600-1HD Single-Head Magnetron Sputtering Coater é um equipamento de revestimento de alto vácuo recentemente desenvolvido por nossa empresa e é usado para preparar filme ferroelétrico de camada única ou multicamada, filme condutor, filme de liga, filme semicondutor, filmes cerâmicos, filme dielétrico, filme óptico, filme de óxido, filme duro, filme de PTFE, etc. O revestidor de pulverização catódica de cabeça única VTC-600-1HD é equipado com uma pistola de alvo, escolhendo um alvo magnético forte ou um alvo magnético fraco.
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Revestimento por pulverização catódica de plasma magnetron de cabeça dupla de alto vácuo
VTC-600-2HD Dual-Head Magnetron Sputtering Coater é um equipamento de revestimento de alto vácuo recentemente desenvolvido por nossa empresa e é usado para preparar filme ferroelétrico de camada única ou multicamada, filme condutor, filme de liga, filme semicondutor, filmes cerâmicos, filme dielétrico, filme óptico, filme de óxido, filme duro, filme de PTFE, etc. O revestidor de pulverização catódica de magnetron de cabeça dupla VTC-600-2HD é equipado com duas pistolas de alvo e duas fontes de alimentação, uma fonte de alimentação de RF para revestimento de pulverização catódica de não condutivo materiais condutores e uma fonte de alimentação CC para revestimento por pulverização catódica de materiais condutores.
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Plasma Sputtering Coater com 3 Fontes de Sputtering
VTC-600-3HD Threel-Head Magnetron Sputtering Coater é um equipamento de revestimento recentemente desenvolvido por nossa empresa e é usado para preparar filme ferroelétrico de camada única ou multicamada, filme condutor, filme de liga, filme semicondutor, filme cerâmico, filme dielétrico , filme óptico, filme de óxido, filme duro, filme de PTFE, etc. O revestidor de pulverização catódica de magnetron de três cabeças VTC-600-3HD é equipado com três pistolas de alvo, uma fonte de alimentação de RF para revestimento por pulverização de materiais não condutores e duas fontes de alimentação DC suprimentos para revestimento por pulverização de materiais condutores.
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