Comprar Serra de corte e corte,Máquina de lixar e polir,Máquina de revestimento de filme?

2000 Tempo de fundação
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14.000m² Coberto de Fábrica

Serra de fio diamantado para corte máx. 50 mm

Machine de revêtement à rotation haute vitesse (10 000 tr/min et 5 pouces maximum)

Serra diamantada de baixa velocidade com lâminas de corte de 4"

آلة اللف والتلميع بالضغط المركزي

上部加熱カバー付きコンパクトテープキャスティングフィルムコーター

Máquina de lapidação e polimento de precisão de 8"

7つのキャビティを備えたコンパクトな真空アーク溶解システム

Máquina de revestimento por imersão de mesa com velocidade variável (1-200 mm/min)

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Aviso sobre os preparativos para o feriado do Festival da Primavera em 2025

2025/01/14

Caros clientes e amigos: Obrigado por sua confiança e apoio contínuos na Shenyang Kejing Auto-instrument Co., Ltd.! De acordo com os regulamentos nacionais de feriados estatutários e combinados com a situação real da empresa, os arranjos de feriados do Festival da Primavera de 2025 são agora notificados da seguinte forma:

Qual é a diferença entre CC, FI e RF na pulverização catódica?

2025/03/21

O surgimento e a aplicação da tecnologia de pulverização catódica passaram por muitos estágios. Após mais de 30 anos de desenvolvimento, a tecnologia de pulverização catódica magnetron se desenvolveu em um método insubstituível para filmes finos ópticos, elétricos e outros funcionais. O quanto você sabe sobre eles?

Quais são os fatores que afetam a pulverização catódica de magnetron de alto vácuo?

2025/03/20

Com base na pulverização catódica básica de magnetron, são introduzidos ambientes de crescimento de alto vácuo e alta temperatura, e a tecnologia de plasma é combinada para melhorar a eficiência da reação de deposição reativa, de modo a realizar epitaxia de filme de pulverização catódica de magnetron. O filme preparado sob essa condição de alto vácuo tem uma melhor orientação de rede e propriedades cristalinas mais excelentes. Ele tem uma ampla gama de aplicações em materiais supercondutores quânticos, ferroelétricos, materiais piezoelétricos, materiais termoelétricos e outros campos. O estado de alto vácuo ajuda a reduzir a influência de impurezas e garante que as partículas pulverizadas não reajam adversamente com outros gases durante o processo de deposição.