• Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) mit 3 Vakuum-Chucks

    Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) mit 3 Vakuum-Chucks

    Der Vakuum-Spincoater VTC-100 ist standardmäßig mit 3 Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe ausgestattet. Je nach Probengröße können unterschiedliche Vakuumspannfutter verwendet werden. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spincoater VTC-100 die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Steuerung der Geschwindigkeit.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spincoater mit 200ºC Heizabdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spincoater mit 200ºC Heizabdeckung

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA-II eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für stark saure und stark alkalische Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die je nach Probengröße angepasst sind. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Vakuumloser Desktop-Spin-Coater zur Verwendung in Handschuhboxen

    Vakuumloser Desktop-Spin-Coater zur Verwendung in Handschuhboxen

    Der VTC-50A-DC Spin Coater verwendet unabhängige Stromversorgungssysteme für Motorteil und Steuerteil, und das Geschwindigkeitskontrollsystem verwendet einen Single-Chip-Mikrocomputer mit hoher Entstörungsfestigkeit zur Steuerung, sodass die Rotationsgeschwindigkeit im Bereich von 1000-8000 U/min sehr hoch und stabil ist. Der Coater hat während des Betriebs zwei Stufen, nämlich Stufe T1 bei niedriger Geschwindigkeit und Stufe T2 bei hoher Geschwindigkeit.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) Verwendung in Handschuhbox

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) Verwendung in Handschuhbox

    Der Vakuum-Spincoater VTC-100PA-DC ist standardmäßig mit 3 Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe ausgestattet. Je nach Probengröße können unterschiedliche Vakuumspannfutter verwendet werden. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spincoater VTC-100-DC die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Steuerung der Geschwindigkeit.

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  • Spin-Spray-Coater (2000 U/min und max. 6 Zoll) mit Heizabdeckung

    Spin-Spray-Coater (2000 U/min und max. 6 Zoll) mit Heizabdeckung

    Der Infrarot-Heiz-Sprüh-Spin-Coater (Klebstoffnivellierer, Entwickler, Klebeschleuder, Spin-Coater) VTC-200-4P mit Heizfunktion der oberen Abdeckung wird hauptsächlich für die Entwicklung von Grafiken und Oberflächenbeschichtungen in der Halbleiter- und Plattenherstellungstechnologie verwendet. Nach dem Klebenivellierungs- oder Entwicklungsprozess verdampft das Lösungsmittel im Kolloidfilm auf den niedrigsten Gehalt. Während des Arbeitsprozesses wird die Entwicklungsflüssigkeit oder das Kolloid in Form von Nebel auf die Probe gesprüht, sodass die Lösung gleichmäßig auf der Probenoberfläche verteilt wird, was der reibungslosen Leistung des Films und des Entwicklungsprozesses förderlich ist.

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