Sistema de deposição a laser pulsado esférico
Este sistema é um equipamento de pesquisa e desenvolvimento para deposição a laser pulsado esférico (PLD). A tecnologia de deposição a laser pulsado é amplamente utilizada e pode ser empregada na preparação de filmes finos de diversas substâncias, como metais, semicondutores, óxidos, nitretos, carbetos, boretos, silicietos, sulfetos e fluoretos. É inclusive utilizada na preparação de filmes de materiais de difícil síntese, como diamante e nitreto cúbico.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 44 dias úteis
- 50 conjuntos
- em formação
Apresentação do produto
OSistema de Deposição a Laser Pulsado Esférico (PLD)é uma plataforma de pesquisa e desenvolvimento de alto desempenho projetada para a fabricação avançada de filmes finos. A Deposição por Laser Pulsado (PLD) é uma técnica na qual um feixe de laser de alta energia é focalizado em uma pequena área do material alvo. A intensa densidade de energia vaporiza ou ioniza parte do alvo, fazendo com que o material ejetado se desloque em direção ao substrato, onde se condensa para formar um filme fino.
Dentre os diversos métodos de preparação de filmes finos, a PLD tem sido amplamente aplicada para depositar uma ampla gama de materiais, incluindo metais, semicondutores, óxidos, nitretos, carbetos, boretos, silicietos, sulfetos e fluoretos. Ela também é capaz de fabricar filmes de materiais que são difíceis de sintetizar por outros métodos, como diamante e nitreto de boro cúbico (c-BN).
Osistema PLD esféricoA tecnologia apresenta um design de câmara de vácuo esférica e utiliza pulsos de laser de alta energia (potência < 4 kW) para evaporação precisa do alvo, permitindo a deposição uniforme de filmes finos de metais, óxidos e nitretos. Sua capacidade de alto vácuo garante pureza excepcional do filme. O conjunto de alvo rotativo de quatro posições permite a deposição sequencial de múltiplos materiais sem quebra de vácuo.
Construído com uma câmara de aço inoxidável equipada com janela de observação e entrada de gás controlada por MFC, o sistema suporta experimentos envolvendo materiais refratários como diamante e nitretos cúbicos. Este equipamento é ideal para universidades e institutos de pesquisa que realizam estudos de filmes finos de alta qualidade, particularmente aqueles que exigem controle rigoroso sobre a composição e a microestrutura do filme.
Principais características
1. Projeto de câmara de vácuo esférica:Fabricada em aço inoxidável 304 com soldagem a arco de argônio, proporcionando um diâmetro efetivo da câmara de Φ300 mm. Equipada com uma janela de observação visível para monitoramento do experimento em tempo real.
2. Desempenho de vácuo ultra-elevado:Atinge um vácuo final extremamente alto, alta velocidade de bombeamento e baixa taxa de vazamento.
3. Deposição a laser precisa:Utiliza pulsos de laser de alta energia (<4 kW) para evaporar materiais alvo, permitindo a deposição de filmes finos de metais, óxidos, nitretos e outros materiais compostos.
4. Sistema rotativo de quatro alvos:Apresenta rotação planetária e autorrotação com exposição de alvo único através de um obturador, permitindo a deposição contínua de múltiplos materiais.
5. Suporte para substrato de alta temperatura:Proporciona controle preciso de temperatura e velocidade de rotação ajustável para atender a requisitos de processos complexos.
6. Compatibilidade com nível de pesquisa:Capaz de preparar materiais refratários, como filmes de diamante e nitreto cúbico, ideal para pesquisa e desenvolvimento de materiais avançados.
7. Configuração de segurança inteligente:Equipado com sistemas integrados de aquecimento, iluminação e alarme de pressão da água; a entrada de gás controlada por MFC (0–100 sccm) garante condições de processo estáveis.
8. Capacidade de recuperação rápida:Mantém o vácuo ≤20 Pa após 12 horas de desligamento da bomba, melhorando a eficiência experimental.
9. Estrutura modular:Distância ajustável entre o suporte do substrato e o sistema de alvo rotativo para adaptação flexível a diferentes configurações de deposição.
10. Otimizado para produção em pequena escala:Indicado para universidades e institutos de pesquisa, combinando pesquisa exploratória com fabricação de filmes finos de precisão.
TParâmetros técnicos
Nome do produto | Sistema de Deposição a Laser Pulsado Esférico (PLD) |
Condições de Instalação | 1. Temperatura ambiente: 10℃～35℃ 2. Umidade relativa: não superior a 75% 3. Alimentação: 220 V, monofásica, 50 ± 0,5 Hz 4. Potência do equipamento: inferior a 4 kW 5. Abastecimento de água: pressão da água de 0,2 MPa a 0,4 MPa, temperatura da água de 15 °C a 25 °C. 6. O ambiente ao redor do equipamento deve estar organizado, o ar deve estar limpo e não deve haver poeira ou gás que possam causar corrosão em aparelhos elétricos ou outras superfícies metálicas, ou causar condução entre metais. |
Parâmetros principais (Especificação) | 1. O sistema adota uma estrutura esférica e uma porta frontal manual. 2. Os componentes e acessórios da câmara de vácuo são todos feitos de aço inoxidável de alta qualidade (304), soldagem a arco de argônio, e a superfície é tratada com jateamento de vidro, polimento eletroquímico e passivação. 3. A câmara de vácuo está equipada com uma janela de observação visual. O tamanho efetivo da câmara de vácuo é de Φ300mm. 4. Limite do grau de vácuo: ≤6,67×10-5Pa (Após o cozimento e a desgaseificação, use uma bomba molecular de 600 L/s para bombear ar e uma de 8 L/s para o estágio frontal); • Taxa de vazamento na detecção de vazamentos de vácuo do sistema: ≤5,0×10-7Pa.L/S; · O sistema começa a bombear ar da atmosfera para 8,0×10-4Pa, que pode ser alcançada em 40 minutos; • O grau de vácuo após a bomba ser desligada por 12 horas é ≤20 Pa 5. Plataforma de amostra: o tamanho da amostra é φ40mm, a velocidade de rotação é de 1-20RPM e a distância entre a plataforma do substrato e o alvo de rotação é de 40-90mm. 6. A temperatura máxima de aquecimento da amostra é de 800℃, a precisão do controle de temperatura é de ±1℃ e o controle de temperatura é feito por meio de um medidor de temperatura. 7. Alvo de rotação de quatro estações: cada posição do alvo tem φ40mm, apenas uma posição do alvo é exposta no defletor/obturador, o feixe de laser precisa atingir a posição superior do alvo, e o alvo de rotação possui as funções de revolução e autorrotação. 8. Dispositivos de alarme para aquecimento, iluminação e pressão da água estão instalados na câmara de vácuo. 9. Medidor de fluxo de massa unidirecional MFC (para controlar o ar de admissão): 0-100 sccm |
Garantia
Garantia limitada de um ano com suporte vitalício (exceto peças enferrujadas devido a condições inadequadas de armazenamento).
Logística
