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Revestimento giratório sem vácuo de mesa
VTC-50A Spin Coater adota sistemas de alimentação independente para parte do motor e parte de controle, e o sistema de controle de velocidade adota microcomputador de chip único com alta anti-interferência para controlar, de modo que a velocidade de rotação seja muito alta e estável na faixa de 1000 -8000RPM. O revestidor tem dois estágios durante a operação, ou seja, estágio T1 em tempo de baixa velocidade e estágio T2 em tempo de alta velocidade.
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Spin Coater (8K rpm, 4" Wafer máx.) Com 3 Mandril a Vácuo
O VTC-100 Vacuum Spin Coater é equipado com 3 mandris a vácuo (para padrão) de diferentes tamanhos, e diferentes mandris a vácuo podem ser montados de acordo com o tamanho das amostras. Durante o trabalho, o revestidor giratório a vácuo VTC-100 usa o método de adsorção de placa a vácuo para fixar a amostra na placa de amostra. O equipamento usa um programa de dois estágios para controlar a velocidade.
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Revestimento giratório compacto (8K rpm, Wafer máx. de 4") Design de mandril baixo
VTC-100B Vacuum Spin Coater é uma versão atualizada do VTC-100 Vacuum Spin Coater. A tampa superior dobrada para abrir e fechar, e está equipada com uma trava de segurança. Ao mesmo tempo, tem a função de proteção de tampa aberta para melhor garantir a segurança do operador.
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Revestimento giratório de mandril a vácuo programável (500-6000 rpm, 8" máx.)
VTC-200 Vacuum Spin Coater tem as vantagens de operação simples, limpeza conveniente e tamanho pequeno. É usado principalmente no processo de cultivo de filmes em laboratórios de faculdades e universidades e institutos de pesquisa científica. Durante o trabalho, o revestidor giratório a vácuo VTC-200 usa o método de adsorção de placa a vácuo para fixar a amostra na placa de amostra. O equipamento usa um programa de dois estágios para controlar a velocidade.
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Revestimento giratório de alta velocidade (10.000 rpm e 5" máx.)
VTC-100PA Vacuum Spin Coater é adequado para processo de semicondutor, cristal, disco óptico, fabricação de placas e revestimento de superfície, etc. Pode ser usado para solução de revestimento de ácido forte e alcalino forte. O equipamento é equipado com dois mandris a vácuo de tamanhos diferentes (por padrão) ajustados de acordo com o tamanho da amostra. O equipamento pode armazenar 12 conjuntos de programas, e cada conjunto contém 6 estágios de execução.
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Revestimento giratório de alta velocidade com cobertura de aquecimento de 100ºC
VTC-100PA-I Vacuum Spin Coater é adequado para processo de semicondutor, cristal, disco óptico, fabricação de placas e revestimento de superfície, etc. Pode ser usado para solução de revestimento de ácido forte e alcalino forte. O equipamento é equipado com dois mandris a vácuo de tamanhos diferentes (por padrão) ajustados de acordo com o tamanho da amostra. O equipamento pode armazenar 12 conjuntos de programas, e cada conjunto contém 6 estágios de execução.
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Revestimento giratório de alta velocidade com cobertura de aquecimento de 200ºC
VTC-100PA-II Vacuum Spin Coater é adequado para processo de semicondutor, cristal, disco óptico, fabricação de placas e revestimento de superfície, etc. Pode ser usado para solução de revestimento de ácido forte e alcalino forte. O equipamento é equipado com dois mandris a vácuo de tamanhos diferentes (por padrão) ajustados de acordo com o tamanho da amostra. O equipamento pode armazenar 12 conjuntos de programas, e cada conjunto contém 6 estágios de execução.
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Revestimento giratório de alta velocidade (10.000 rpm e máximo de 5") com cobertura UV
VTC-100PA-UV UV Spin Coater é adequado para processo de semicondutor, cristal, disco óptico, fabricação de placas e revestimento de superfície, etc. A tampa superior adota fonte de luz UV e é especialmente adequada para materiais sensíveis à luz UV, que podem solidificar rapidamente filme revestido. Além disso, a lâmpada UV também possui uma função de polimerização, que pode polimerizar o monômero em um filme de polímero.
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Revestimento giratório anticorrosivo (6K RPM e Wafer máx. de 6 pol.)
VTC-200P Vacuum Spin Coater é adequado para processo de semicondutor, cristal, disco óptico, fabricação de placas e revestimento de superfície, etc. O equipamento pode armazenar 12 conjuntos de programas, e cada conjunto contém 6 estágios de execução. A tampa superior da câmara pode aquecer a amostra (função opcional), o que é benéfico para o processo de revestimento de materiais de película fina com alta viscosidade.
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